近来，上海新阳在互动渠道表明，公司用于存储器芯片的氮化硅蚀刻液为承当的国家科技项目原创产品。该产品已完成出售，为我国开展自主可控的氮化硅蚀刻液做出重要贡献。跟着商场及客户需求的添加，公司也将继续开发更高等级的蚀刻液产品。
公司建立20多年来，一直坚持技能创新，现在已具有完好自主可控知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技能，用于晶圆电镀与晶圆清洗的第二代核心技能产品已达到国内领先水平。第三大核心技能电子光刻技能完成重大突破，已取得客户连续性订单。公司发挥本身资源优势，与合作方共同开发的研磨液项目研制顺畅，也现已拿到客户订单。
公司建立前10年，研制出了面向半导体封装范畴的第一代电子电镀与电子清洗技能，为我国半导体封装引线脚工艺加工带来了一场根本性技能革新与提高；后10年，研制出了面向芯片制作范畴的第二代电子电镀与电子清洗技能，为我国芯片制作铜互连工艺填补了国产资料的空白，完成了国产代替和自主供给才干，一举突破了国外企业在这一范畴的独占，避免了被国外封闭与“卡脖子”的或许。迄今为止，公司铜互连电镀技能，是国内仅有能够满意芯片90-14nm铜制程悉数技能节点对电镀液要求的本乡企业。
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