继美国与荷兰之后，7月23日，日本约束半导体制作设备出口的新规正式收效。

　　此前，在通过一个多月的定见咨询后，5月23日，日本经产省发布《外汇法》修正案，将先进芯片制作所需的23个品类的半导体设备列入出口控制目标。

　　在7月13日举办的商务部例行新闻发布会上，新闻发言人束珏婷表明，期望日方从保护本身利益和中日经贸合作全局动身，信守自由贸易和市场经济许诺，恪守国际经贸规矩，防止对两国经贸合作进行政治搅扰、约束企业正常自主经营和企业间公平竞争。

　　上海对外经贸大学教授、日本经济研讨中心主任陈子雷告知榜首财经，此次日本出台半导体设备的出口控制法规，暗斗认识严峻，有违世贸组织下自由贸易准则，与经济全球化和多边主义各走各路。“日方‘自以为是’推进施行这一法规，不但对中日两国，也对整个东亚区域甚至全球的半导体范畴的产业链、供应链都会带来必定的冲击，而日本企业也将为此接受巨大损失，这种‘共输’行径实在是损人不利己。”

　　日本此次约束出口的23种半导体资料和设备中包含了多种关键性资料，例如氟化氢、蚀刻液、聚酰亚胺和高纯度氮等。

　　详细而言，触及光刻/曝光范畴的有4项，即先进制程的光刻机/涂胶显影机/掩膜及制作设备；触及刻蚀范畴的有3项，分别是湿法/干法/各向异性的高端刻蚀；触及清洗范畴的有3项：即铜氧化膜、枯燥法去除外表氧化物、晶圆外表改性后单片清洗。触及最多的是薄膜范畴，达11项。此外，触及热处理和测验范畴的各1项。