《科创板日报》9月21日音讯，上海新阳半导体资料股份有限公司在互动渠道上表明，公司现在在手订单产值丰满，ArF光刻胶尚处于验证阶段。电镀液及添加剂产品已掩盖90-14nm技能节点，干法蚀刻后清洗液现已完成14nm以上技能节点全掩盖。

　　揭露资料显现，上海新阳半导体资料股份有限公司1999年7月，2011年6月在深圳证券交易所创业板上市。上海新阳经过继续不断地研制立异，形成了具有完好自主可控知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技能，用于晶圆电镀与晶圆清洗的第二代核心技能已达到世界水平。严密环绕两大核心技能，公司开发研制出140多种电子电镀与电子清洗系列功能性化学资料，产品广泛应用于集成电路制作、3D-IC先进封装、IC传统封测等范畴，满意芯片铜制程90-28nm工艺技能要求，相关产品已成为多家集成电路制作公司28nm技能节点的基准资料（Base Line）。

　　上海新阳是国家高新技能企业，上海市企业技能中心，上海市专利作业演示企业，上海市重合同守信用AAA级企业。公司先后屡次承当国家科技严重专项《极大规划集成电路制作配备及成套工艺专项》（02专项）项目研制与产业化，并取得国家02专项体系立异奖。公司多项产品荣获我国半导体立异产品技能奖，我国国际工业博览会新资料一等奖，上海市高新技能成果转化项目奖，松江区科学技能进步一等奖。

　　才智芽数据显现，上海新阳半导体资料股份有限公司及其相关公司累计申请专利380余件，其间发明专利240余件，占比超越64%。除我国外，该公司在美国、韩国、德国等国家具有专利技能布局。经过进一步剖析其专利技能数据可知，该公司在引线结构、电镀液、清洗液、化合物等范畴具有丰厚专利布局。回来搜狐，检查更多