1.一种蚀刻液，其特征是，包含有浓度大于或等于5g/l的蚀刻剂，所述蚀刻剂选自酸性盐或碱性盐；

　　所述碱性盐选自碳酸盐、碳酸氢盐、亚硫酸盐、乙酸盐、磷酸盐和次氯酸盐中的至少一种。

　　2.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征是，所述酸性盐选自磷酸二氢钠、磷酸二氢钾、磷酸二氢锂、硫酸氢钠、硫酸氢钾和硫酸氢锂中的至少一种；和/或

　　所述碱性盐选自碳酸钠、碳酸钾、碳酸锂、碳酸氢钠、碳酸氢钾、碳酸氢锂、亚硫酸钠、亚硫酸锂、亚硫酸钾、乙酸锂、乙酸钠、乙酸钾、磷酸钠、磷酸钾、磷酸锂、次氯酸锂、次氯酸钠和次氯酸钾中的至少一种。

　　3.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征是，所述蚀刻剂在所述蚀刻液中的浓度为5-300g/l。

　　4.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征是，所述蚀刻液用于蚀刻两性金属；和/或

　　5.根据权利要求4所述的蚀刻液，其特征是，所述两性金属选自铝金属或铝合金。

　　6.根据权利要求1至5任一项所述的蚀刻液，其特征是，所述蚀刻液还包含有：浓度为0.5-5g/l的表面活性剂，以及浓度为0.1-5g/l的缓蚀剂。

　　7.根据权利要求6所述的蚀刻液，其特征是，所述表面活性剂选自硬脂酸、十二烷基苯磺酸钠、十二烷基醇酰胺、三乙醇胺、苯扎氯铵中的至少一种；和/或

　　所述缓蚀剂选自铬酸钠、亚硝酸钠、硼酸钠、六次甲基四胺、乙二胺、三乙醇胺和十七酰胺中的至少一种。

　　8.根据权利要求6所述的蚀刻液，其特征是，所述蚀刻液包括以下浓度组分：

　　9.根据权利要求1至5任一项所述的蚀刻液，其特征是，所述蚀刻液的工作时候的温度为20℃-50℃。

　　提供蚀刻剂，所述蚀刻剂选自酸性盐或碱性盐，所述酸性盐选自磷酸二氢盐和/或硫酸氢盐，所述碱性盐选自碳酸盐、碳酸氢盐、亚硫酸盐、乙酸盐、磷酸盐和次氯酸盐中的至少一种；

　　本发明属于蚀刻技术领域，尤其涉及一种蚀刻液及其制备方法。本发明提供的蚀刻液包含有浓度大于或等于5g/L的蚀刻剂，蚀刻剂选自酸性盐或碱性盐；酸性盐选自磷酸二氢盐和/或硫酸氢盐；碱性盐选自碳酸盐、碳酸氢盐、亚硫酸盐、乙酸盐、磷酸盐和次氯酸盐中的至少一种。该蚀刻液可实现对金属材料的蚀刻，反应条件温和，速度可控，蚀刻精度高，且蚀刻表面十分光滑平整，适用于蚀刻金属箔片以及具有复杂外形的三维金属器件，保证产品质量。

　　用于液晶玻璃蚀刻装置的药液的更新方法、药液更新用喷嘴及更新用药液的制作的过程