酸性蚀刻液，是一种铜版画雕琢用质料。经过腐蚀资料的特性来进行雕琢。主要成分：氯化铜、氨水、氯化氨,，补助成分为氯化钻、氯化钠、氯化胺或其它含硫化合物以改进特性。适用范畴：一般适用于多层印制板的内层电路图形的制造及纯锡印制板的蚀刻。主要特征：蚀刻速率快，可达每分钟70微米以上；溶铜才能高，蚀刻简单操控；蚀刻液能接连再生循环运用，成本低。以酸性氯化铜蚀刻液为例。酸性氯化铜，依据增加不同的氧化剂又可细分为盐酸氯化铜与空气系统、盐酸氯化铜与氯酸钠系统、盐酸氯化铜与双氧水系统三种蚀刻工艺，在出产的悉数过程中经过补加盐酸与空气、盐酸与氯酸钠、盐酸与双氧水和少数的增加剂来完成线路板板的接连蚀刻出产。

　　主要成分：氯化铜、氨水、氯化氨,，补助成分为氯化钻、氯化钠、氯化胺或其它含硫化合物以改进特性。

　　主要特点：蚀刻速率快，可达每分钟70微米以上；溶铜才能高，蚀刻简单操控；蚀刻液能接连再生循环运用，成本低。

　　以酸性氯化铜蚀刻液为例。酸性氯化铜，依据增加不同的氧化剂又可细分为盐酸氯化铜与空气系统、盐酸氯化铜与氯酸钠系统、盐酸氯化铜与双氧水系统三种蚀刻工艺，在出产的悉数过程中经过补加盐酸与空气、盐酸与氯酸钠、盐酸与双氧水和少数的增加剂来完成线路板板的接连蚀刻出产。

　　影响蚀刻速率的要素：影响蚀刻速率的重要的要素是溶液中氯离子、铜离子、亚铜离子的含量及蚀刻液的温度等。