经过十几年的展开，我国集成电路芯片制作企业的工艺水平已提升至28纳米，与先进水平的距离逐步缩小。现在12英寸生产线纳米工艺产品现已量产；16/14纳米要害工艺技能已打开研制并取得必定的技能打破和效果；8英寸生产线微米。

　　事实上，半导体/芯片职业中运用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有很多有机物成分。在工艺进程中，这些有机溶剂大部分经过蒸发成为废气排放。现在，芯片制作进程中清洗进程数量约占一切芯片制作工序制作进程的30%以上，是一切芯片制作工艺进程中占比最大的，整体跟着技能节点的持续前进，清洗工序的数量也会添加，这也就也就意味着VOC排放将会持续的添加。

　　VOCs（volatile organic compounds）是蒸发性有机物的总称，首要来自于包含半导体职业的工业生产中，不但对人体和环境直接构成损害，也是构成细颗粒物(PM2.5)、臭氧(O3)等二次污染物的重要前体物，然后引发灰霾、光化学烟雾等大气环境问题。因而，怎么切合我国的实践全面展开VOCs污染防治，是一项刻不容缓、艰巨杂乱的使命。VOC办理是打赢蓝天保卫战以及维护咱们“青山绿水”的要害。

　　现在，我国半导体工业针对这种气体排放，一般选用吸附、燃烧或两者相结合的处理办法。但总所周知工业发生很多的二氧化碳正在构成温室效应，损坏环境。要彻底解决VOC废气排放问题，还必须加强研讨更具适用性的办法。今年来国际上，一种新开发的技能，经过修正气液别离箱，废气能够从现有的晶片清洗设备中有用铲除，然后削减排放总量。溶解在废水后能够在工厂的废水处理设备中经过生物降解进行分化。这项技能包含进步废气去除功率，活跃推进削减对环境的影响。

　　芯片制作VOC排放问题专家季丽楠女士在海外首要提出了该技能的基本概念，参加一同规划集成到清洗体系中的设备，而且担任办理跟进整个作业进程。季丽楠女士早年曾就读于早稻田大学并在东芝公司长时间从事芯片制作VOC排放问题研讨。2022年11月季丽楠女士还因该项目取得三重县县长奖，被约请参加了日本创造与立异协会（JIII）举行的创造赞誉典礼。回国后季丽楠女士一向努力于此方面的研讨，经过该设备的国内推行，然后使该技能为我国芯片制作职业的展开和环境维护做出奉献。我国的芯片展开必定要重视环保的问题--- “青山绿水”便是咱们的我国芯。